全自动离子溅射仪为一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统,对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时,交换试样与阴极的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁,之后试样复原,再进行溅射镀膜。铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴极材料,有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴极材料,氧气为离子溅射仪常用的反应气体。
全自动离子溅射仪的使用注意事项:
1、一般作业间隔可调,间隔越近,溅射速度越快,但热损害会添加。
2、离子流的大小通过控制真空压力实现,真空度越低,I越大,溅射速度越快,原子结晶晶粒越粗,电子炮击样品(阳极)发生的热量越高;真空度越高,I越小,溅射速度越慢,原子结晶晶粒越细微,电子炮击样品发生的热量小。
3、加快电压为固定,也有可调的,加快电压越高,对样品热损害越大。一般运用金属靶材的正比区域。
4、有些热敏样品,需要对样品区进行冷却,水冷或许帕尔贴冷却;也能够选用磁控设备,像电磁透镜相同把电子违背样品。经过这样的改造,当然会添加很高的成本。能够在白腊外表溅射一层金属,而没有任何损害!
5、真空中的杂质越多,镀膜质量越差。一般黄金比较稳定,能够选用空气作为等离子气源,而其他很多靶材则需要惰性气体为好。
6、气体原子序数越高,动量越大,溅射越快,但晶粒会较粗,连续成膜的膜层较厚。
7、保持真空室的洁净对高质量的镀膜有很大优点。
8、不要让机械真空泵长期保持极限真空,否则简单反油。