离子溅射仪用于在SEM中涂覆非导电样品,使样品具有良好的导电性并避免充电效应,从而看到更好的电子显微镜效果。金喷涂仪的原理是离子溅射。离子溅射金喷涂仪可用于大多数样品,特别是热敏生物样品,而碳镀仪用于热蒸发。由于涂覆过程会产生高温,因此不适合涂覆热敏样品。
离子溅射仪的应用领域:
1、在光学领域:中频闭场非平衡磁控溅射技术也应用于光学膜(如抗反射膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃。
2、在装饰领域的应用,如各种全反射膜和半透明膜,如手机外壳、鼠标等。
3、作为一种非热涂层技术,应用于微电子领域。各种功能薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的薄膜。例如,在低温下沉积氮化硅抗反射膜以提高太阳能电池的光电转换效率。
4、化学气相沉积(CVD)难以生长,不适合材料膜沉积,并且可以获得大面积的非常均匀的膜。
5、在高温超导薄膜、铁电薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池和记忆合金薄膜的研究中发挥着重要作用。
6、在机械加工行业,表面功能膜、超硬膜和自润滑膜的表面沉积技术自诞生以来取得了长足的进步,可以有效提高表面硬度、复合韧性、耐磨性和高温化学稳定性,从而大大提高涂层产品的使用寿命。
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