在《流浪地球2》中，智能量子计算机MOSS作为隐藏的幕后黑手，让拥有强大计算能力的量子计算机再一次成为热点。MOSS并非纯粹的科学幻想，现实中量子计算机的研究早已起步，并取得了实际成果。
我国在量子计算机领域走在世界前列。近几年，“九章”“祖冲之号”量子计算机先后问世并完成升级，在超导量子系统、随机线路采样任务等方面实现了量子计算*性。而最新量子计算机“悟空”也即将在合肥本源量子的实验室问世，有望成为国内顶尖的实用量子计算机。
近日，为“悟空”生产配套量子芯片——“悟空芯”的国内首条量子芯片生产线通过央视直播展现在观众面前。据报道，该条产线于2022年1月投入运营，在一年时间内，陆续导入24台量子芯片生产相关的工艺设备，孵化出了3套自研的量子芯片专用设备。其中，江苏雷博科学仪器有限公司（以下简称“雷博科仪”）研发的AC200-SE-CTM 自动匀胶机和AC200-S-CTM自动显影机成为该条产线匀胶工艺和显影工艺的专用设备。
量子芯片工作在-270℃左右的环境中，与普通芯片有较大区别，因此量子芯片的材料、生产工艺等也与普通芯片不同，这对生产设备提出了特殊的要求。该条产线所用的AC200-SE-CTM 自动匀胶机和AC200-S-CTM自动显影机由雷博科仪为量子芯片生产专门定制。匀胶机为自动摆臂与4路滴胶功能，显影机则是拥有双自动摆臂、3路显影、1路纯水、1路氮气的功能，可处理1cm至8英寸晶圆。
自动显影机
自动匀胶机
AC系列是雷博科仪旋涂薄膜制备类产品线的代表，应用于量子芯片生产线的AC200衍生机采用模块化设计，支持去边、背洗、匀胶、显影、清洗等功能模块个性化定制，可快速拆卸和替换原有功能模块，操作便捷。同时AC200衍生机还配载了精密的运动控制系统，可提高实验精度及重复性。
匀胶和显影是芯片生产核心工艺——光刻工序的重要步骤。光刻工序分为涂胶、曝光、显影三大步骤，首先用匀胶机将光刻胶涂覆在晶圆表面，再用光刻机进行曝光，然后利用显影机进行图形显影。匀胶和显影直接影响光刻工序图形的质量，图形质量也对后续蚀刻和离子注入等工艺有着重要影响。雷博科仪成为国内首条量子芯片生产线匀胶和显影设备的提供者，不仅验证了其在涂胶显影设备技术上的先进性，也说明了国产涂胶显影设备已经可以满足部分高端芯片生产。
据了解，在晶圆加工领域，涂胶显影设备主要被日本东京电子有限公司垄断。除光刻机外，涂胶显影设备的国产化替代也是国内芯片产品发展的重要课题。目前，国产涂胶显影设备厂商正在迎头赶上，逐步打破进口产品垄断并填补国内空白，雷博科仪也在为实现涂胶显影设备的国产化替代而努力。在量子芯片生产线发光发热的涂胶显影设备，在普通芯片生产中也能够提供令人满意的成果。
为解决芯片的“卡脖子”问题，我国对国产芯片产业提供了政策、资金等多方面的大力支持。近年来，我国不仅在硅基芯片上，在光量子、超导量子、碳基芯片等新型芯片领域也接连实现重大突破，芯片产业的自立自强在逐步推进。这是国产芯片产业的高速发展时期，也是雷博科仪等芯片生产设备厂商的重要舞台。助力国产芯片的发展，雷博科仪已做好准备。
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